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第215章 ssmb-euv

    廖老带着路阳来到实验室时,门外就听到了柴文政与丁冉的争论,不时夹杂着老教授温和的嗓音。


    “马上进中旬了,组装实验为什么不行?也不影响你这边,就在隔壁做一个无尘空间出来放置euv光刻机。”丁冉的话音越说越大。


    “我们现在本来就是两个小组在倒班,人员就分配不过来,而且euv哪是这么轻易能组装的,装好后的调整工作量更大,丁冉,我们现在没时间走弯路了。”柴文政丝毫不退让。


    “弯路?你怎么确认这是弯路,现在的实验模型,要么是击打均衡问题,要么是镜片吸收比例问题,要么是光路布置问题,每一项我们都追踪了无数次,既然如此我们为什么不大胆假设就是空间其他未知吸收光源。”


    老教授似乎是在劝解两人,“文政、丁冉,大家都目的是一样的,冷静些,为什么不同时进行?”


    柴文政立刻说道,“两个原因,人员分配问题,现在大家轮班已经很辛苦了,再独立分开,实验会被分散,第二个原因是光刻机的组装最少需要10天时间,如果再算上监测设备,半个月就没了。”


    听到这里廖老带着路阳走进实验室,看到廖老进来,室内的二十几名研究人员稍稍松了口气,这次的争论程度远超任何时候。


    “大家都很有精神嘛,这位大家应该都熟悉吧,我的学生,路阳!”廖老笑着给众人介绍道。


    柴文政跟丁冉都是老熟人,廖老直接给路阳介绍起老教授,“这位是清大紫光的祁海义教授,这次多亏了祁教授跟他的团队,帮我们不少的忙。”


    路阳赶紧上前跟老人握手,“祁教授辛苦了,您叫我小路就好,柴教授,丁教授,还有各位同事,大家都辛苦了。”


    “路总不一般呐,为我们争了口气,华芯能有今天的成果,你功不可没。”祁海义的声音充满学者气息,语速不急不缓。


    实验室内众人激动起来,华芯最近的新闻他们早已知晓,路阳的名字更是如雷贯耳。


    柴文政跟路阳随便打了个招呼,立刻说道,“廖老您来的正好,劝劝丁冉。”


    路阳默默退了半步,站到廖老侧后方,廖老心情不错,“文政啊,我在门口就听到了,其实你争论的核心我都明白,当我们全身心在投入一个项目时,思维惯性会导致我们的精力集中在一个点,当然集中也不是坏事,现在表面看起来,都觉得自己非常冷静,有无数的理论来支持自己。”


    “你看你,又熬夜了吧,眼睛都有血丝了,先去睡一觉,休息好再说,这件事不一定非要现在争出个结果。”


    今天轮到丁冉负责,大清早过来接班,说着说着就争论了起来。


    廖老看了她一眼,“小冉,你也冷静下!好了,昨天通宵的同事先回去睡觉,下午我们再来讨论这个事情。”


    众人散去后,丁冉也开始了今天的实验,模型是她提议的,现在要选另外一条路,她心中也不好受。


    安排好工作,丁冉对路阳苦笑道,“路总,让您见笑了!我跟文政合作多年,这种争论再正常不过,他睡醒就好了。”


    路阳稍稍点头表示理解,“我记得这个实验模型当初是您提出来的,在当时那种条件下能想到简化实验可是提升了不小的进度。”


    “是啊,之前没拿到模型,我们主要方向就是镜片的吸光测试与光路布置,也算是把镜片再次做了验证,所以我坚决认为镜片方面不会出现问题。”


    廖老说道,“行了,忙去吧!”


    说完又看向祁海义,“去我办公室坐坐,缓一缓,喝口茶,看你样子也是一晚没睡。”


    “人老了,睡眠少,昨天在实验室小睡了2个小时,今天见到小路,精神更好了。”


    廖老有意不让路阳在实验室多待,怕他生出不该有的心思。


    路阳看着里面的光路布置出神,前世他看过asml的演示视频,内部结构确实跟这个很像,极紫外光的吸收问题可是拦住了科学家好几年。


    “小路!”


    路阳回过神来,“哦,来了!”


    三人来到办公室,梁圆烧水泡茶,祁海义很是热情,“早在清大就听吴总提过你几次,刚来申城时还跟老于吃过几次饭,对你他们都是极为倾佩的。”


    “您过奖了,我也只能做些力所能及的辅助工作罢了。”


    廖老忽然说道,“老祁,听说清大启动了ssmb项目?”


    “哦,那是唐教授那边负责的光学项目,是一种稳态微聚束加速器光源,老唐也不容易,十几年了,现在才立项。”


    路阳一听是光学项目,来了兴趣,立刻问道,“这个项目跟euv有关系?”


    祁海义见路阳感兴趣,也乐得充当介绍人,说不定还能给老唐拉些研究经费。


    “是有些关系,ssmb就是稳态微聚束,可以用于制备各种大功率窄带宽的相干辐射光,用于科研与工业场景,理论上,一旦这种技术研发成功,那么就能通过一套装置稳定提供duv,euv的各种稳定光源。”


    卧槽,这么牛?路阳可没听过,但隐隐感觉到这东西很有可能颠覆光刻机啊,要知道光刻机为什么要叫光刻,光就是基础啊,如果一套设备能制备各种类型的光用于雕刻,那不是要飞天?


    根据瑞利判据,要提高光刻机的分辨率,就必须缩短光的波长,duv使用的就是193纳米的深紫外光,euv则是13.5纳米,为了获得这个级别的波长,那简直是绞尽科学家们的脑汁。


    asml的13.5纳米极紫外光是如何产生呢?


    原理也并不复杂,先用电流给二氧化碳介质通电,让其进入高能态产生红外激光,然后用这个激光来轰击液态锡,让其进入到高能等离子体状态,在等离子体冷却时就会发射出13.5纳米波长的极紫外光,asml给这个技术取名叫lpp-euv。


    现在实验室用的光源是大连光源结合多家研究室发明的dpp-euv,原理上是一样的。


    但清大的这个思路,完全又是另一种路线了了,如果这位唐教授的ssmb技术能用于光刻机,那不就是ssmb-euv了吗?
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